আধুনিক নির্ভুল প্রক্রিয়াকরণের ক্ষেত্রে, কারণ ঐতিহ্যবাহীলেজার মার্কিং মেশিনলেজার তাপীয় প্রক্রিয়াকরণ প্রযুক্তি ব্যবহার করে, সূক্ষ্মতার বিকাশ সীমিত, এবং অতিবেগুনী লেজার চিহ্নিতকরণ মেশিনের উত্থান এই অচলাবস্থা ভেঙে দেয়, যা এক ধরণের ঠান্ডা প্রক্রিয়াকরণ প্রক্রিয়া ব্যবহার করে, প্রক্রিয়াকরণ প্রক্রিয়াটিকে "ফটোএচিং" প্রভাব বলা হয়, উচ্চ লোড শক্তি সহ "ঠান্ডা প্রক্রিয়াকরণ" (অতিবেগুনী) ফোটনগুলি উপাদান বা আশেপাশের মাধ্যমের রাসায়নিক বন্ধন ভেঙে ফেলতে পারে, যাতে উপাদানটি অ-তাপীয় প্রক্রিয়া ক্ষতির সম্মুখীন হয়, এবং অভ্যন্তরীণ স্তর এবং কাছাকাছি এলাকায় কোনও তাপ বা তাপীয় বিকৃতি হয় না, এবং চূড়ান্ত প্রক্রিয়াজাত উপাদানের মসৃণ প্রান্ত এবং অত্যন্ত কম কার্বনাইজেশন থাকে, তাই সূক্ষ্মতা এবং তাপীয় প্রভাব হ্রাস করা হয়, যা লেজার প্রযুক্তিতে একটি দুর্দান্ত অগ্রগতি।
অতিবেগুনী লেজার প্রক্রিয়াকরণের প্রতিক্রিয়া প্রক্রিয়া আলোক-রাসায়নিক বিমোচন দ্বারা উপলব্ধি করা হয়, অর্থাৎ, পরমাণু বা অণুর মধ্যে বন্ধন ভাঙার জন্য লেজার শক্তির উপর নির্ভর করে, যা তাদেরকে গ্যাসীয় করে তোলে এবং ছোট অণুতে বাষ্পীভূত করে। কেন্দ্রীভূত স্থানটি অত্যন্ত ছোট, এবং প্রক্রিয়াকরণ তাপ-প্রভাবিত অঞ্চলটি খুব ছোট, তাই এটি অতি-সূক্ষ্ম চিহ্নিতকরণ এবং বিশেষ উপাদান চিহ্নিতকরণের জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে।
মডেল | এফএল-ইউভি৩ | এফএল-ইউভি৫ |
লেজার পাওয়ার | 3W | 5W |
শীতলকরণের উপায় | এয়ার কুলিং | |
লেজার তরঙ্গদৈর্ঘ্য | ৩৫৫ এনএম | |
আউটপুট শক্তি | >৩ ওয়াট@৩০ কেজি হার্জ | >৫ ওয়াট@৪০ কেজি হার্জ |
সর্বাধিক নাড়ি শক্তি | ০.১ মিলিজুল @ ৩০ কেজি হার্জ | ০.১২মিজু @ ৪০কিলোহার্জ |
পালস পুনরাবৃত্তি ফ্রিকোয়েন্সি | ১-১৫০KHz | ১-১৫০KHz |
নাড়ির সময়কাল | <15ns@30KHz | <18ns@40KHz |
গড় শক্তি স্থায়িত্ব | <3% | <3% |
পোলারাইজেশন অনুপাত | >১০০:১ অনুভূমিক | >১০০:১ অনুভূমিক |
রশ্মির বৃত্তাকারতা | >৯০% | >৯০% |
পরিবেশগত প্রয়োজনীয়তা | কাজের তাপমাত্রা: ১৮°-২৬°, আর্দ্রতা: ৩০% - ৮৫%। | |
কন্ট্রোল বোর্ড এবং সফটওয়্যার | জেসিজেড ইজেডক্যাড২ |